射频溅射
的有关信息介绍如下：
射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。
射频溅射：用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，由于常用的交流电源的频率在射频段（5~30MHz）所以这种溅射方法称为射频溅射。
射频溅射射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜，获得的薄膜致密、纯度高、与基片附着牢固、溅射速率大、工艺重复性好。常用来沉积各种合金膜、磁性膜以及其他功能膜。
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射频溅射
Simone
发布于 2025-09-23 00:41:51
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